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          01月 20

          10nm訂單緊張 臺(tái)積電或推12nm工藝

          編輯:匿名 來(lái)源:IT168
          放大 縮小 打印 郵件 收藏本頁(yè) 游吧論壇

          目前已經(jīng)有諸多信息表示,無(wú)論是臺(tái)積電還是三星,在10納米制程工藝上都遭遇到良率問題,而這也直接導(dǎo)致采用改工藝的高通驍龍835、蘋果A10X、聯(lián)發(fā)科Helio X30等移動(dòng)芯片供貨緊張,并且問題有可能會(huì)持續(xù)一整年。目前有臺(tái)灣媒體表示,為了緩解這一問題,臺(tái)積電計(jì)劃推出12納米的制造工藝,不過并非是全新研發(fā),而是此前16納米工藝的第四代改良版本

          根據(jù)臺(tái)灣媒體的信息顯示,在聯(lián)發(fā)科最近的一次財(cái)務(wù)會(huì)議上,臺(tái)積電、日月光等高層悉數(shù)到場(chǎng),而有分析師則在現(xiàn)場(chǎng)詢問了臺(tái)積電高層是否真的有12納米工藝,而臺(tái)積電則回應(yīng)確實(shí)在研究類似的新技術(shù),但是否最終命名為12納米還有待進(jìn)一步確認(rèn)。

          雖然沒有直接給出答案,但臺(tái)積電高層人員也同時(shí)表示,臺(tái)積電的策略始終都是持續(xù)改進(jìn)每一代工藝,而這暗示 16 納米工藝目前還在持續(xù)改進(jìn)中。根據(jù)此前的報(bào)告,臺(tái)積電所謂的12納米工藝相比于現(xiàn)在的16納米來(lái)說(shuō),不僅擁有更高的晶體管集成度,而且在性能和功耗方面進(jìn)一步優(yōu)化,有較大的升級(jí)幅度

          目前臺(tái)積電的16納米工藝已經(jīng)發(fā)展了多個(gè)版本,包括FinFET、FinFET Plus、FinFET Compact等,而若推出12納米工藝,不僅可以在市場(chǎng)上緩解10納米工藝帶來(lái)的訂單緊張問題,而且還可以市場(chǎng)營(yíng)銷上反擊三星、GlobalFoundries、中芯國(guó)際等對(duì)手的14納米工藝,避免訂單的流失。

          目前還無(wú)法確定該工藝的制程將何時(shí)開始應(yīng)用,但目前擺在臺(tái)積電面前的問題是,10納米工藝的良率還有待進(jìn)一步提升,臺(tái)積電目前的合作客戶產(chǎn)品包括蘋果A10X、A11、Helio X30、麒麟970等都存在一定的供需緊張問題。

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